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【情報】製造1nm晶片的EUV光刻機:ASML已完成設計

樓主 (祥物語) buddha743
GP9 BP-
轉載出處(xf 最夯的電腦領域)


本月中旬在日本東京舉辦了ITF論壇。

論壇上與ASML合作研發光刻機的比利時半導體研究機構IMEC公佈了3nm及以下製程的在微縮層面技術細節。至少就目前而言ASML對於3m、2nm、1.5nm、1nm甚至Sub 1nm都做了清晰的路線規劃,且1nm時代的光刻機體積將增大不少。

據稱在當前台積電、三星的7nm、5nm製造中已經導入了NA=0.33的EUV曝光設備,2nm之後需要更高解析度的曝光設備,也就是NA=0.55。好在ASML已經完成了0.55NA曝光設備的基本設計(即NXE:5000系列),預計在2022年實現商業化。

至於上文提到的尺寸為何大幅增加就是光學器件增大所致,潔淨室指標也達到天花板。ASML目前在售的兩款極紫外光刻機分別是TWINSCAN NXE:3400B和TWINSCAN NXE:3400C,3600D計劃明年年中出貨,生產效率將提升18%。
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台積電囂張表示:俺全要了!!
更新!! 連(棺件拾嗑/流保潔)都在報導(A死摸)1奈米新聞!!
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GP 95
2 樓 愛香 AIKA520777
GP0 BP-
請問比奈米還小的單位是什麼?
真的很好奇?
那一奈米的製程大概什麼時候會普及?
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LV. 30
GP 1k
3 樓 冰舞 ninonino10
GP0 BP-
外行人不懂問個

為啥ASML有能力做1奈米的光刻機
卻不自己產出晶片?

台積電不是也只是「代工」嗎?
晶片設計也不是自己的

簡單來說
有晶片廠的設計+ASML的設備

不一定要台積電也能有1奈米晶片產出不是?
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LV. 49
GP 5k
4 樓 冬風 waewaewae
GP0 BP-
早期製程越先進
同一晶圓可切割出更多晶片
成本反而更低

不過這時代量子極限,越小不是不能做
但是成本越來越高

但是,蘋果和高通看台積電
就有點我們看前幾年時的intel和nvidia一樣的心情
三星太弱你就賣我們很貴是吧
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LV. 1
GP 261
5 樓 binfone AOTBear
GP0 BP-
為何三星要堅持做晶圓廠?

感覺輸台積電一大截,自己的獵戶座還要幫忙消耗產能用落後製程,一整個惡性循環
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